研究開発

光産業では大きく３つの分野でそれぞれ研究開発を進めています。
光記録／光通信／あかり照明であります。
半導体デバイス製造プロセスではウエーハをより薄くする薄板化(はくばんか)工程や 高精細な加工工程及び洗浄工程において新しい提案とサンプルテストまで開発支援しています。 また今後は時代の進化と共に新しい分野へ挑戦し続けます。

ショートパルス技術
光ディスクへの高密度記録においてショートパルス印加と測定技術が求められており、記録速度を高速化する為にパルス印加での大電流化も同時に求められています。 Blu-rayやHD-DVDの時代に即した技術を研究開発しています。

UVレーザー加工技術
サファイアやGaNに代表される脆性材料の高精細加工の実現。
デブリ対策や加工品質向上を目指し常に研究開発しています。

先端技術−新事業開拓
熱制御技術やメカトロ技術及び各種計測技術などを駆使し、最先端の技術開発を目指し成長を続けて参ります。